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㈡ 油藏描述技術及發展趨勢
鍾廣見
(廣州海洋地質調查局廣州510760)
作者簡介:鍾廣見(1965—),男,教授級高工,主要從事石油地質、海洋地質調查研究工作
摘要油藏描述主要對油藏各種特徵進行三維空間的定量描述和預測,以綜合分析地質、物探、測井、分析化驗、地層測試等各項資料為基礎,採用油藏描述的地質技術、油藏描述的地震技術、油藏描述的測井技術和油藏描述的計算機技術揭示地下油藏的規律。油藏描述軟體主要有Petrel、Discovery、RMS、EarthVision、SMT等,其中Petrel應用比較廣泛。四維地震技術、高解析度層序地層學的應用及儲集層物性動態變化空間分布規律研究技術是油藏描述技術發展趨勢。
關鍵詞油藏描述四維地震高解析度層序地層學
1油藏描述的概念及特點
1.1油藏描述的定義
油藏描述,簡稱RDS技術服務,就是對油藏各種特徵進行三維空間的定量描述和表徵。油藏描述亦稱為儲集層描述,源自英文Reservoir Description一詞。早在1979以至預測[1]年,斯侖貝謝公司就已針對油藏描述這一課題設計出了一些軟體,隨後把三維地震處理、聲阻抗以及垂直地震剖面(VSP)等引用於測井研究,並結合高解析度地層傾角、岩性密度測井、能譜測井等最新技術,進行實際應用,對油藏進行綜合分析,取得了較好的效果[2]。
現代油藏描述是應用地質、物探、測井、測試等多學科相關信息,以石油地質學、構造地質學、沉積學為理論基礎,以儲層地質學、層序地層學、地震岩性學、油藏地球化學為方法,以資料庫為支柱,以計算機為手段,對油藏進行四維定量化研究並進行可視化描述、表徵及預測的技術。在不同的勘探開發階段,利用不同的信息,採用不同的技術方法和手段,描述不同的具體對象[3]。
1.2油藏描述的特點
藉助一體化綜合油藏描述軟體能把地震解釋、構造建模、岩相建模、油藏屬性建模、裂縫建模和油藏數值模擬顯示及虛擬現實於一體,為地質、地球物理、岩石物理、油藏工程工作提供一個共享的信息平台。軟體不僅可以提高研究人員對油藏內部細節的認識,精確描述透視油藏屬性的空間分布,計算其儲量和誤差、比較各風險開發模型、設計井位和鑽井軌跡、無縫集成油井生產數據和油藏數模結果、發現剩餘油藏和隱蔽油藏、降低開發成本。
闡明油氣藏的精細構造面貌,沉積體系與沉積相的類型與分布規律、儲集體的空間展布,描述儲集體參數分布規律及演化特徵、儲集體非均質性、油氣藏的流體性質和分布規律,建立油氣藏地質模型,計算油氣儲量值和進行油氣藏綜合評價,研究開發過程中油氣藏基本參數的演化特徵和規律,並為油氣藏數值模擬提供基本數據和地質體模型[4]。
油藏描述具有一大特點,兩個層次,三條支柱和四項任務。「一大特點」是指油藏描述是以綜合為本,即綜合運用了地質、物探、測井、分析化驗、地層測試等各項資料;「兩個層次」是指油藏描述按描述的階段不同,可以分為油藏描述和油藏管理;而「三條支柱」是指油藏描述是以地質理論、物探技術和油藏工程技術為基礎的,在這三條支柱中,地質理論是最重要的;最後,油藏描述的研究內容主要包括「四項任務」:即研究油藏的構造格架、地層格架、岩性分布和油氣分布。總而言之,油藏描述的本質是「精細」與「綜合」[5-8]。
2油藏描述方法及技術
構造圈閉、儲層展布及流體性質是研究油藏的三大要素,油藏描述研究即研究油藏三大要素的四維變化特徵,簡單的可以歸結為:①油氣田地質構造和儲層幾何形態的研究;②關鍵井的研究及解釋模型的確定;③油田參數轉換關系的確定、滲透率估算及測井項目不全井的評價;④單井測試評價;⑤多井處理、單井動態模擬研究及三維油藏模型的建立。因此,對油藏的描述包括靜態和動態兩部分。
油藏描述在油氣勘探與開發中具有特定地質任務,即使闡明油氣藏的精細構造面貌,沉積體系與沉積相的類型與分布規律、儲集體的空間展布,描述儲集體參數分布規律及演化特徵、儲集體非均質性、油氣藏的流體性質和分布規律,建立油氣藏地質模型,計算油氣儲量值和進行油氣藏綜合評價,研究開發過程中油氣藏基本參數的演化特徵和規律,並為油氣藏數值模擬提供基本數據和地質體模型。
提高儲層描述和預測的精度,需解決好儲層空間分布問題,而其關鍵和難點在於做好地震地質聯合反演[9-12]。
油藏定量表徵的手段主要是運用儲層反演,即通過測井地震等信息通過地質統計方法(多點地質統計)[13-21]、反演方法得到表徵儲層的波阻抗數據體,人機交互解釋儲層的空間分布規律,得到解釋成果:儲層頂面構造圖、砂體展布圖等。存在的問題是反演儲層厚度精度依賴於地震解析度,反演過程中缺少地質沉積知識等信息的控制。儲層三維模擬方法預測儲層,充分利用測井垂向高解析度,並引入沉積相控的概念,即儲層分布與沉積相的匹配關系,利用地震屬性體作為三維模擬的協約束條件加以控制[22-52]。
油藏描述要正確揭示地下油藏的規律,必須利用多種手段和多種信息,並以多學科的理論為指導,才能做好油藏的綜合研究和描述,達到預期的目的。故油藏描述的方法和技術涉及的內容很廣,概括起來說,可分為油藏描述的地質技術、油藏描述的地震技術、油藏描述的測井技術和油藏描述的計算機技術等四個方面。上述四個方面技術的目的是相同的,即對油藏進行整體或局部、宏觀或微觀、靜態或動態的研究,去揭示復雜油藏的地質問題。由於各個技術屬於不同的學科,故各自應用的原理、方法、手段和信息各不相同,所以,它們揭示油藏問題的側面也是不同的。綜合應用上述四種技術,就可以使研究人員從多個側面來認識油藏,研究油藏,必將有利於正確揭示地下復雜油氣藏的地質規律,深化對油氣藏的認識。
2.1地質綜合分析
地質綜合分析要求進行地層對比、構造特徵研究、儲層特徵研究、儲層四性關系分析、數據分析、斷層封堵性分析(圖1、2)。
圖1 地質綜合分析模式圖Fig.1 Model map of comprehensive geological analysis
圖2 地層對比分析Fig.2 Correlation analysis map of Strata
2.2地震儲層反演
在儲層特徵研究基礎上進行反演、儲層反演技術是精細油藏描述技術中不可或缺的關鍵技術(圖3)。
圖3 井約束反演Fig.3 Inversion constrained by well
2.3地震解釋技術
地震構造描述的主要任務是要確定圈閉構造特徵和構造發育史,提供油藏的空間幾何形態、斷裂展布和組合關系、圈閉類型等油藏的格架信息(圖4)。
三維地震是油藏構造模型研究的最有力技術手段,具有其他方法不可取代的優勢,主要有以下一些先進的解釋技術。
2.3.1相干體技術
濾波-振幅包絡-一階導數-相干體,這種技術的特殊之處在於突出了不連續性,比地震水平切片的地質解釋更直觀。尤其是斷層解釋更客觀、更細致。此外,對河道砂體及裂縫的預測也有獨特的作用。目前相干體技術已成為三維處理的質量控制手段,確定偏移速度場、偏移演算法、比較處理流程的合理性及三維連片效果的工具(圖5)。
2.3.2斷層自動追蹤
利用螞蟻追蹤功能自動追蹤斷層(圖6)。
2.3.3三維可視化技術
三維可視化技術是用於顯示描述和理解地下和地面諸多現象特徵的一種工具。它被廣泛地應用到地質和地球物理學及工程地質等領域,它既是描繪和了解模型物的一種手段,也是數據體的一種表徵形式。作為地震資料解釋手段的三維可視化技術主要包括:①構造可視化、②地層可視化、③振幅可視化、④信息的綜合可視化。
圖4 構造特徵研究Fig.4 Study of structural characteristics
圖5 相干體分析Fig.5 Analysis of coherent body
2.4三維構造模型建立
利用測井數據、鑽井數據和各種屬性層面趨勢圖採用序貫高斯模擬演算法進行確定性和隨機性屬性等資料建立油藏屬性模型,使用3D相模型或3D地震屬性約束屬性建模,多種方法交錯使用,建立三維物性模型(圖7)。
利用序貫指示模擬、基於目標體的建模、截斷高斯模擬、神經網路模擬、適應性河流相模擬、分級相帶多種方法建立沉積相模型。分析各時期相帶空間分布,分析沉積演化歷史。作為油藏屬性建模的相控條件如孔隙度建模、應用各種趨勢及多參數約束建模。
圖6 自動構造解釋模塊功能示意圖Fig.6 Schematic diagram of automated structural interpretation mole function
圖7 三維構造模型建立功能示意圖Fig.7 Schematic diagram of 3-Dstructure model
2.5儲層橫向預測與目標優選技術
儲層預測研究是在地震構造描述和沉積相等的研究基礎上,對儲層進行厚度展布、物性參數定量分布研究和預測。儲層預測技術包括地震屬性分析、微地震相分析技術、地震資料反演技術、油氣檢測技術等[22-52]。
2.5.1地震資料屬性分析技術
地震屬性是對地震波幾何學、運動學、動力學或統計學特徵的具體測量。目前用於儲層預測中主要是地震波動力學信息,且對地震反射波振幅、相位、頻率和吸收系數等參數的研究和應用最多。這些都與地層的岩性、物性、厚度及其含油氣性有關系,通過地震處理手段分別從地震反射信號中提取地震反射波動力學信息,並結合井下資料進行綜合解釋,即可不同程度地達到儲層橫向預測的目的。
2.5.2微地震相分析技術
微地震相分析技術是對某一目的層所對應的反射波同相軸的物理參數(振幅、頻率、極性)和幾何特徵進行分析,並與已知井下目的層岩性與儲層物性相結合,以建立反射波特徵與目的層岩性及其儲層空間展布特徵之間的關系,進而指導對研究區內目的層岩性及其儲集體空間分布的預測。
2.5.3地震反演技術
地震反演是根據地表地震觀測資料,用已知地質和鑽井、測井資料為約束條件,藉助各種數學方法對地下岩層物理參數求解的過程。波阻抗和速度反演是地震反演的核心,在儲層預測中得到了廣泛的應用,並且有較好的預測效果。
2.5.4目標優選
地震屬性的聚類分析進行儲層預測、通過地震體透視功能優選目標、提取目標體的包絡,產生目標體、對優選出的目標體進行重采樣、基於模型中的有利目標設計靶點及井軌。
2.6油藏描述的主要軟體
油藏描述軟體系統主要由Petrel、Discovery、RMS、EarthVision、SMT等油藏描述軟體及計算機工作站或微機組成。
Petrel—綜合利用了地質學、地球物理學、岩石物理學和油藏工程學等學科來實現全三維環境下的地震解釋、地質解釋、建模和油藏工程研究等工作,實現油藏的優化管理。綜合了地震資料解釋、測井分析、地質綜合研究、地質建模、數值模擬的一體化平台,適用於各種油藏類型。利用多資料綜合分析,可以精確描述油氣藏及其孔滲飽等屬性參數的空間分布,計算其儲量、定量估算風險性、優選模型、設計井位和鑽井軌跡、無縫集成生產數據和數值模擬器,發現剩餘油藏和隱蔽油藏,從而降低開發成本,提高效益。Petrel應用了各種先進技術:強大的構造建模技術、高精度的三維網格化技術、確定性和隨機性沉積相模型建立技術、科學的岩石物理建模技術、先進的三維計算機可視化和虛擬現實技術。提高了對油藏內部細節的認識,精確描述透視油藏屬性的空間分布,計算其儲量和誤差、比較各風險開發模型、設計井位和鑽井軌跡、無縫集成油井生產數據和油藏數模結果、發現剩餘油藏和隱蔽油藏,從而極大地降低開發成本。
Discovery—微機一體化油藏描述軟體,是美國Landmark公司在Windows環境下開發的產品,無論地質情況簡單還是復雜,Discovery能提供一整套有效的工具,把地質研究、地震解釋、測井分析、開發生產動態管理集成到一個完整的解釋系統中,形成微機一體化油藏描述平台。具有以下特性:
新的地層柱管理,用戶可以根據需要選取所需要的地層名稱建立適用於本工區需要的地層柱;批量修改WellBase圖層,增加了OpenWorks常用的井符號;多次完井數據輸入,進行地層名稱與其他生產數據匹配時可以參考興趣區域,曲線數據也可以用GXDB進行資料庫管理。生產數據分析功能,可以進行產量預測,並且可以生成以下三種圖件:生產油、氣、水隨時間變化圖、生產油、氣、水與累計產量變化圖、P/Z與累計產氣量變化圖,並將生產曲線落到平面圖上。
可以製作測井曲線圖層,用戶自定義顯示井段、模版等;增強的繪圖工具;增強的數字化功能:可以讓用戶使用數字化桌,在GeoAtlas的圖層中直接進行斷層、等值線、數據點等線條的數字化;在GeoAtlas增加了一個井信息工具,可以通過移動滑鼠來觀察在WellBase、Prizm、Zonem anager、GMA等中存儲的井信息;新增了一個圖層檢查修改功能,它允許用戶通過網路修改編輯在伺服器上較大的圖層;增強隱閉圖層,在以前版本中也可隱閉圖層,但是一張圖上有多個隱閉圖層會使系統運行速度降低,在新版本中有多張隱閉圖層也不會使系統運行速度下降;在IsoMap中的一些新功能,如Zmap格式數據輸入直接生成AOI圖層;強制數據點等值線;可以用數據點進行圖層運算等。
根據井曲線進行井間顏色(或岩性)充填的功能;新增了井位索引圖和曲線上浮的功能;新增用戶自定義的光柵文件或第三方軟體提供商提供的光柵文件的輸入輸出介面;增強智能選擇工具,可對層位、斷層、注釋等任意選擇;其他的功能增強:如在井間的界線上添加斷層名和地層名、注釋可任意旋轉、在投影剖面上劃彎曲的虛線等。
TVDSS井深顯示方式,在新增的測井顯示道上可以顯示Zonemanager中的屬性;在Prizm曲線模版中新增了一個礦資道(Minerals Track),這個道用來顯示礦物之間的比例(如3&4礦物模型);新增加了一個曲線編輯菜單,這個菜單包括曲線拷貝、曲線刪除、剪切曲線最大值或最小值、給曲線改比例、曲線濾波(平滑曲線、方波化曲線、三角化曲線)以及內插曲線等。並且每項功能可以應用於一口或多口井,也應用於全井段或指定井段;在二維地震解釋中新增一個層位多Z值,這樣可以很好地進行逆斷層的層位解釋;新的時深選項。
二維地震解釋中成圖與等值線的增強;修改了工作流程,增強了易用性;在MapView、Isolmap、Quick Map中的炮點上顯示速度和深度。在二維工區中進行層位深度網格化,新的等值線管理器可以進行;易用性增強:可以生成、存貯以及恢復測線閉合差校正的流程,擴展了快捷鍵,自動二維測線排序,斷層、層位滾動,建立斷層面圖層,輸出層拉平的SEGY數據,給二維地震數據加EBCDIC數據頭,在自動追蹤時確定追蹤的振幅最大/最小范圍值。
SeisVision地震模塊中對應於WellBase中多地層柱功能,在SeisVision中也可以選擇相應的地層柱進行顯示。簡化了增加井位和分層的導向操作。增加了變面積剖面覆蓋波形顯示的方式。增加了生成深度域地震數據體的功能。在底圖上可以高亮顯示用於時深轉換的參考井。
3油藏描述技術發展趨勢
3.1四維地震技術
在油藏開采過程中,儲集層孔隙流體的溫度、壓力及組分會產生變化,影響儲集層的體積密度及地震速度,從而影響反射波的振幅及傳播時間。在油田開發過程中,隔一定時間進行一次三維地震觀測,每次觀測的測試位置、野外參數、處理參數都不相同,然後比較前後的地震記錄,就可以知道地下油、氣、水分布的變化,得到流動體系、油氣運移比較精確的空間圖像。四維地震正在成為當前和今後監測油藏動態和描述油藏的一項新技術:①監測油田注水開發過程中氣頂變化、底水推進以及油、氣、水分布范圍。②監測熱采等人工措施的作用范圍。熱蒸汽到達的部位地層溫度升高,地震波傳播速度變慢,引起地層反射系數、透射系數以及地震波的振幅和到達時間改變,根據這些標志可以監測熱蒸汽推進的前緣[54]。
3.2儲集層物性動態變化空間分布規律研究技術
通過研究儲集層沉積相與物性關系,分析儲集層在三維空間中的連續性和物性變化特徵,對各種分析化驗資料,特別是注水開發後的密閉取心資料以及開發動態資料進行研究,結合吸水剖面、產液剖面和C/O 比等測試資料,從儲集層基本特徵、注入水與地層流體的物理化學作用、地層溫壓變化、油水滲流機理及影響因素等方面,可研究注水開發後儲集層結構的變化規律和油水分布特徵[2]。
3.3高解析度層序地層學的應用
多學科交叉是未來石油工業發展的方向,也是解決石油勘探開發中各種技術問題的必由之路。作為一項成功的工業技術,高解析度層序地層學運用於油藏描述也促進了油藏描述的完善和發展[38]。層序地層學的核心在於確定等時地層格架以及時間地層框架內沉積地層的分布類型。在一個基準面旋迴變化過程中形成的岩石單元是一個成因地層時間單元,通過基準面旋迴的識別和等時對比,分析不同級次的陸相地層內部結構特徵,建立高解析度的地層框架,根據低級次旋迴特徵進行局部地層精細對比,可以為精細油藏描述提供基礎[53~56]。隨著鑽井、地震、測井技術的發展,運用高解析度層序地層學將地質、測井、地震進行一體化處理解釋來解決油藏問題將是未來的發展方向[55]。
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[54]霍進,四維地震技術在稠油開采中的應用[J].石油勘探與開發,2001,28(3):80~82
[55]胡詠,於興河,達江.高解析度層序地層學在油藏描述中的運用[J].中國西部油氣地質.2005,l(2):198~202
[56]車樹立,基準面原理在古地理分析中的應用[J].石油勘探與開發,1999,26(3):39~41
Technology and Its Development In Reservoir Description
Zhong Guangjian
(Guangzhou Marine Geological Survey,Guangzhou,510760)
Abstract:Reservoir description technology is used to descript and predict the 3-dismention characteristic of reservoir.This technology is based on analyzing geological data,geophysical data,well data,test data,including geological technology,seismic technology,logging technology and computer technology Petrel,Discovery,RMS,Earth Vision and SMT are the main softwares,Petrel is the most popular soft ware of them Dseismic technology,the application of high resolution sequence stratigraphy and the study of reservoir dynamic variation are the tendency of reservoir description technology.
Key words:Reservoir description;4D seismic;High Resolution Sequence Stratigraphy
㈢ ps怎麼鎖定圖層快捷鍵
你問的是PS,就發一個全套的快捷鍵吧,希望能幫到你
PhotoShop快捷鍵一覽
取消當前命令:Esc
工具選項板:Enter
選項板調整:Shift+Tab
退出系統:Ctrl+Q
獲取幫助:F1
剪切選擇區:F2/Ctrl+X
拷貝選擇區:F3/Ctrl+C
粘貼選擇區:F4/Ctrl+V
自由變形:Ctrl+T
顯示或隱藏標尺:Ctrl+R
顯示或隱藏虛線:Ctrl+H
顯示或隱藏網格:Ctrl+」
顯示或關閉畫筆選項板:F5
顯示或關閉顏色選項板:F6
顯示或關閉圖層選項板:F7
顯示或關閉信息選項板:F8
顯示或關閉動作選項板:F9
選項板.狀態欄和工具箱:Tab
全選:Ctrl+A
反選:Shift+Ctrl+I
取消選擇區:Ctrl+D
選擇區域移動:方向鍵
圖層轉為選擇區:Ctrl+單擊
以10像素移動:Shift+方向鍵
復制選擇區域:Alt+方向鍵
填充為前景色:Alt+Delete
填充為背景色:Ctrl+Delete
調整色階工具:Ctrl+L
調整色彩平衡:Ctrl+B
調節色調/飽和度:Ctrl+U
增大筆頭大小:[
減小筆頭大小:]
選擇最大筆頭:Shift+]
選擇最小筆頭:Shift+[
重復使用濾鏡:Ctrl+F移至上一圖層:Ctrl+[
排至下一圖層:Ctrl+]
移至最前圖層:Shift+Ctrl+[
移至最底圖層:Shift+Ctrl+]
激活上一圖層:Alt+[
激活下一圖層:Alt+]
合並可見圖層:Shift+Ctrl+E
翻屏查看:PageUp/PageDown放大視窗:Ctrl+「+」
縮小視窗:Ctrl+「-」
放大局部:Ctrl+空格+單擊
縮小局部:Alt+空格+單擊
打開文件:Ctrl+O
關閉文件:Ctrl+W
文件存檔:Ctrl+S
列印文件:Ctrl+P
恢復到上一步:Ctrl+Z
PhotoShop二級快捷鍵一覽
範例
[文件]ALTF
自動:ALTFUB(批處理)
「[文件]ALTF」表示「文件」菜單的快鍵是「ALTF」;
「自動:ALTFU」表示「自動」命令的快捷鍵是「ALTFU」,即它處在「文件」菜單(F)下;
「B(批處理)」表示「自動」命令(或菜單)下含有多個子命令,其中「批處理」的快捷鍵是「ATLFub」,即該命令處於「文件」菜單中的「自動」命令(或菜單)下。
本文中凡加帶有「」號的快捷鍵所對應的上一層菜單,在PHOTOSHOP菜單中都帶有指向右方的黑三角符號。
窗口主菜單
文件ALTF(一般情況下按ALT鍵即可激活文件菜單)
編輯ALTE
圖像ALTI
圖層ALTL
選擇ALTS
濾鏡ALTT
視圖ALTV
窗口ALTW
幫助ALTH(一般情況下可按F1代替)
子菜單詳細操作
[文件]ALTF
最近打開的文件:ALTFR對應的數字鍵(可用數字為1~9,10可以直接按鍵盤向上方向鍵選中)
置入:ALTFRL
聯機服務:ALTFI
導入:ALTFM
導出:ALTFE
自動:ALTFU
B(批處理)
P(PDF演試文稿)
C(創建快鍵批處理)
腳本:ALTFK
[編輯]ALTE
清除:ALTEE
拼寫檢查:ALTEH
查找和替換文本:ALTEX
描邊:ALTES
變換:ALTEA
S(縮放)
R(旋轉)
K(斜切)
D(扭曲)
P(透視)
1(旋轉180度)
9(順時針旋轉90度)
0(逆時針旋轉90度)
;H(水平翻轉)
(V)垂直翻轉
註:部分操作可通過一級快捷鍵CTRLT激活後在變換選項欄操作。
定義畫筆預設:ALTEB
定義圖案:ALTED
自定義形狀:ALTEO
清理:ALTE
U(還原)
C(剪貼板)
H(歷史記錄)
A(全部)
預設管理器:ALTEM。
[圖像]ALTI
模式:ALTIM
B(點陣圖);
G(灰度);
D(雙色調);
I(索引顏色);
R(RGB顏色);
C(CMYK顏色);
L(LAB顏色);
M(多通道);
A(8位通道);
N(16位通道);
T(顏色表);
P(指定配置文件);
V(轉換為配置文件);
調整:ALTIA
c(亮度/對比度);
R(匹配顏色);
S(可選顏色);
X(通道混合器);
G(漸變映射);
F(照片濾鏡CS功能);
W(暗調/高光CS功能);
E(色調均化);
T(閾值);
P(色調分離);
N(變化)
復制:ALTIAD
應用圖像:ALTIY;
計算:ALTIC;
圖像大小:ALTII;
畫布大小:ALTS;
像素長寬比:ALTIX;
旋轉畫布:ALTIE
1(旋轉180度)
9(順時針旋轉90度)
0(逆時針旋轉90度)
裁切ALTIP;
修整ALTIR;
顯示全部ALTIV;
陷印ALTIT
[圖層]ALTL
新建ALTLw
B(圖層背景)
A(圖層組)
Y(由鏈接圖層組成的圖層組)
復制圖層ALTLD
刪除ALTLL
L(圖層)
K(鏈接圖層)
H(隱藏圖層)
圖層樣式ALTLY
N(混合選項)
D(投影)
I(內陰影)
O(外發光)
W(內發光)
B(斜面和浮雕)
T(光澤)
V(顏色疊加)
G(漸變疊加)
Y(圖案疊加)
K(描邊)
C(拷貝圖層樣式)
P(粘貼圖層樣式)
S(將圖層樣式粘貼到鏈接的圖層)
A(清除圖層樣式)
L(全局光)
R(創建圖層)(註:是將圖層樣式轉成圖層)
H(隱藏所有效果)
F(縮放效果)
新填充圖層ALTLP
O(純色)
G(漸變)
R(圖案)
新調整圖層ALTLJ
L(色階)
V(曲線)
B(色彩平衡)
C(亮度/對比度)
H(色相/飽和度)
S(可選顏色)
X(通道混合器)
M(漸變映射)
I(反相)
T(閾值)
P(色調分離)
更改圖層內容ALTLH
圖層內容選項ALTLO
文字ALTLT
C(創建工作路徑)
A(轉換為形狀)
H(水平文字方向)
V(垂直文字方向)
N(消除鋸齒無)
R(消除鋸齒銳化)
I(消除鋸齒明晰)
S(消除鋸齒強)
M(消除鋸齒平滑)
P(轉換為點文本)
W(文字變形)
柵格化ALTLZ
T(文字)
S(形狀)
F(填充內容)
V(矢量蒙版)
L(圖層)
K(鏈接圖層)
A(所有圖層)
新建基於圖層的切片ALTLS
移去圖層蒙版ALTLK
D(扔掉)
A(應用)
啟用圖層蒙版ALTLB
添加矢量蒙版ALTLX
啟用矢量蒙版ALTLC
對齊鏈接圖層ALTLI
分布鏈接圖層ALTLN
鎖定組中的所有圖層ALTLE
拼合圖層ALTLF
修邊ALTLM
D(去邊)
B(移去黑色雜邊)
W(移去白色雜邊)
[選擇]ALTS
色彩范圍ALTSC
修改ALTSM
B(邊界)
S(平滑)
E(擴展)
C(收縮)
擴大選取ALTSG
選取相似ALTSR
變換選區ALTST
載入選區ALTSL
存儲選區ALTSS
[濾鏡]ALTT
濾鏡庫ALTTG
[視圖]
校樣設置ALTVU
U(自定)
C(工作中的CMYK)
Y(工作中的青版)
M(工作中的洋紅版)
W(工作中的的黃版)
B(工作中的的黑版)
P(工作中的CMY版)
A(MacintoshRGB)
I(WindowsRGB)
O(顯示器RGB)
L(模擬紙白)
T(模擬墨黑)
列印尺寸ALTVZ
屏幕模式ALTVM
S(標准屏幕模式)
M(帶有菜單的全屏模式)
F(全屏模式)
(本組命令對應於按連續按下F鍵,文字工具下除外)
顯示ALTVH
S(選區邊緣)
L(切片)
O(注釋)
A(全部)
N(無)
I(顯示額外選項)
對齊到ALTVT
G(參考線)
R(網格)
S(切片)
D(文檔邊界)
A(全部)
N(無)
清除參考線ALTVS
新參考線ALTVE
鎖定切片ALTVL
清除切片ALTVC
[窗口]ALTW
排列ALTWA
D(層疊)
T(拼貼)
I(排列圖標)
W(為「未標題-1」新建窗口)
工作區ALTWK
S(存儲工作區)
D(刪除工作區)
K(復位調板位置)
[使用頻率較高的二級快捷鍵]
[文件][自動][批處理]ALTFUB
[文件][自動][腳本]ALTFK
[編輯]ALTE
清除:ALTEE;
拼寫檢查:ALTEH;
查找和替換文本:ALTEX;
描邊:ALTES;
變換:ALTEA
S(縮放);
R(旋轉);
K(斜切);
D(扭曲);
P(透視);
1(旋轉180度);
9(順時針旋轉90度);
0(逆時針旋轉90度)
;H(水平翻轉);
(V)垂直翻轉。
[圖像]ALTI
模式:ALTIM
G(灰度);
D(雙色調);
I(索引顏色);
R(RGB顏色);
C(CMYK顏色);
調整:ALTIA
c(亮度/對比度);
F(照片濾鏡CS功能);
W(暗調/高光CS功能);
圖像大小:ALTII;
畫布大小:ALTS;
旋轉畫布:ALTIE
1旋轉180度
9順時針旋轉90度
0逆時針旋轉90度
[圖層]ALTL
新建ALTLw
復制圖層ALTLD
刪除ALTLL
L圖層
K鏈接圖層
H隱藏圖層
圖層樣式ALTLY
N混合選項
D投影
I內陰影
O外發光
W內發光
B斜面和浮雕
T光澤
V顏色疊加
G漸變疊加
Y圖案疊加
K描邊
C拷貝圖層樣式
P粘貼圖層樣式
S將圖層樣式粘貼到鏈接的圖層
A清除圖層樣式
L全局光
R創建圖層(註:是將圖層樣式轉成圖層)
H隱藏所有效果
F縮放效果
新填充圖層ALTLP
O純色
G漸變
R圖案
新調整圖層ALTLJ
L色階
V曲線
B色彩平衡
C亮度/對比度
H色相/飽和度
S可選顏色
X通道混合器
M漸變映射
I反相
T閾值
P色調分離
文字ALTLT
C創建工作路徑
A轉換為形狀
H水平(文字方向)
V垂直(文字方向)
N消除鋸齒無
R消除鋸齒銳化
I消除鋸齒明晰
S消除鋸齒強
M消除鋸齒平滑
P轉換為點文本
W文字變形
柵格化ALTLZ
T文字
S形狀
F填充內容
V矢量蒙版
L圖層
K鏈接圖層
A所有圖層
[選擇]ALTS
色彩范圍ALTSC
修改ALTSM
B邊界
S平滑
E擴展
C收縮
擴大選取ALTSG
選取相似ALTSR
變換選區ALTST
載入選區ALTSL
存儲選區ALTSS
[濾鏡]ALTT
濾鏡庫ALTTG
[窗口菜單]ALTW
工作區ALTWK
K復位調板位置
1."畫布旋轉"[Alti再按s]
2."創建新圖層"ShiftCtrln
3."復制圖層"[Altl再按d]
4."刪除圖層"[Altl再按l]
5."自定義畫筆"[Alte再按b]
6."自定義圖案"[Alte再按d]
7.顯示/隱藏"圖層"單擊隱藏圖標
8.顯示/隱藏"通道"單擊隱藏圖標
9.顯示/隱藏"路徑"按shift單擊路徑縮略圖
10.顯示/隱藏"字元"單擊隱藏圖標
11."合並圖層"ctrle
12."混合選項"
13.顯示/隱藏"顏色""色板""樣式"顏色是F6